网友提问：
中科曙光(603019)中科院光电子研究所研制成功我们自主知识产权的光刻机
中科院光电子研究所研制成功我们自主知识产权的光刻机
网友回复
老牛百叶：
11月29日，中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。
唱多者非骗即托：
2005年的新闻，接着编
唱多者非骗即托：
2000/17型台式紫外深层光刻机
《红外》2005年12期 下载（88）被引（0）
据中科院光电所网站报道，该研究所为适应市场 需求，以市场为驱动，用具有国际先进水准的技术和质 量标准，成功地研发出一种URE20OO/17型台式紫外 光刻机. 该光刻机采用20OW直流高压汞灯(光能稳定性 很高，汞灯寿命长)、双目双视场显微镜对准、球碗调 平、单片机控制、触摸开关操作等技术，具有较高的技 术性能和较合理的价格。其特点是体积小、外形美观、 性能可靠、操作方便、经济实用等，因此特别适合从事 微电子技术、MEMS、声表器件、红外探测器及液晶 等研究的高等院校和研究机构使用
cjsh10114991：
新闻超分辨光刻装备项目通过验收 可加工22纳米芯片2018-11-29 16:39 新华网A 新华社成都11月29日电（记者董瑞丰、吴晓颖）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。 中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。 光刻机是制造芯片的核心装备，我国在这一领域长期落后。它采用类似照片冲印的技术，把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上，一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高。但传统光刻技术由于受到光学衍射效应的影响，分辨力进一步提高受到很大限制。 为获得更高分辨力，传统上采用缩短光波、增加成像系统数值孔径等技术路径来改进光刻机，但技术难度极高，装备成本也极高。 项目副总设计师胡松介绍，中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。 据了解，这种超分辨光刻装备制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学、四川大学华西医院、中科院微系统所等多家科研院所和高校的重大研究任务中得到应用。