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兆易创新(603986)超分辨光刻装备项目”通过国家验收 可加工22纳米芯片
我国成功研制超分辨光刻装备 可加工22纳米芯片中国青年报中青在线百家号11-2919:09中青在线北京11月29日电(中国青年报中青在线记者 邱晨辉) 记者从中国科学院获悉，由该院光电技术研究所研制的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”今天通过验收。该装备光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。当天，中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。光刻机是制造芯片的核心装备，我国在这一领域长期落后。它采用类似照片冲印的技术，把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上，一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高。但传统光刻技术由于受到光学衍射效应的影响，分辨力进
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DrLoong：
这可是个大新闻。22nm比现在国际上常用的14nm也只落后1代而已。而且最新的7nm成品率不高。当初求ASML都求不来的东西我们中国人自己新弄出来了。致敬伟大的中国科研人员！！！
兆易的瓶颈估计也是卡在光刻机这块，这关键的一环已经打通了！
唱多者非骗即托：
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