网友提问：
容大感光(300576)光刻胶
光刻技术随着IC集成度的提升而不断发展。为了满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求，半导体用光刻胶通过不断缩短曝光波长以提高极限分辨率，世界芯片工艺水平目前已跨入微纳米级别，光刻胶的波长由紫外宽谱逐步至g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先进的EUV(<13.5nm)线水平。目前，半导体市场上主要使用的光刻胶包括 g 线、i 线、KrF、ArF四类光刻胶，其中，g线和i线光刻胶是市场上使用量最大的。KrF和ArF光刻胶核心技术基本被日本和美国企业所垄断 6
网友回复
磐石一般：
容大光刻胶——KrF248nm量产不久就要开始（预计19年年底），而我国由国家下令国内2家科研部门（非上市公司）还在研发ArF193nm，说明248nm已经是我国最高水平！容大前途不可估量！
磐石一般：
公司聘请日本籍专家作为高级技术顾问，不言而喻是奔着光刻胶更高层发展而为！（上文KrF248，ArF193技术被日本美国垄断），容大248量产将打破或替代外国进口！
磐石一般：
光刻胶技术，我国与日美存在很大差距，长期依赖进口受制于人，我国政府已经充分认识到了这一点，加大政策倾斜和加大研发力度。
专浪次新股：
No news is good news
逃跑最快者：
No one is good one
股友Qswjq3：
当全世界人都说是利好利好利好时，还真的要多一个心眼，必须时刻敬畏这市场呀