股友提问：
奥普光电(002338)控制高科技命脉的是光刻机！中科光刻牛！
控制高科技命脉的是光刻机！中科光刻牛！
股友回复
股友小散：
长春光机所一项目获国家科技进步一等奖
《劳动新闻》（2019年01月14日 02版）
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本报讯（记者 刘长宇）日前，从长春光机所传来好消息——在2018年度国家科学技术奖励大会上，该所“高性能航空光电成像与集成制造技术”项目荣获国家科学技术进步一等奖，项目负责人贾平现场接受颁奖。 航空飞行的复杂应用环境和特殊任务目标使得航空光电成像技术成为多学科交叉融合的、难度极高的综合性技术：航空光电载荷的集成制造涉及到光学、力学、热学、磁学、精密机械、自动控制、电子学、计算机科学等多个学科，且需要在宽域大梯度温度变化、复杂振动、姿态扰动等恶劣环境中工作，同时还要满足体积、重量、功耗等严格的约束条件。 早在上世纪80年代末开始，长春光机所在国内率先开展了无人机航空光电成像机理、方法和集成制造技术研究工作。2010年，长春光机所组建中国科学院航空光学成像与测量重点实验室，进一步加强航空光电领域的应用基础性研究，强化人才队伍和研究平台建设；立足突破核心技术，提升自主创新能力。 经过二十余年不懈努力，长春光机所在高性能航空光电成像与测量系统集成制造技术上实现了我国航空光电成像与测量技术的跨越式发展，为我国重要航空光电装备“从无到有”、“从有到全”、“从全到优”的体系化建设做出突出贡献。
股友小散：
长春光机所一项目获国家科技进步一等奖
《劳动新闻》（2019年01月14日 02版）
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本报讯（记者 刘长宇）日前，从长春光机所传来好消息——在2018年度国家科学技术奖励大会上，该所“高性能航空光电成像与集成制造技术”项目荣获国家科学技术进步一等奖，项目负责人贾平现场接受颁奖。 航空飞行的复杂应用环境和特殊任务目标使得航空光电成像技术成为多学科交叉融合的、难度极高的综合性技术：航空光电载荷的集成制造涉及到光学、力学、热学、磁学、精密机械、自动控制、电子学、计算机科学等多个学科，且需要在宽域大梯度温度变化、复杂振动、姿态扰动等恶劣环境中工作，同时还要满足体积、重量、功耗等严格的约束条件。 早在上世纪80年代末开始，长春光机所在国内率先开展了无人机航空光电成像机理、方法和集成制造技术研究工作。2010年，长春光机所组建中国科学院航空光学成像与测量重点实验室，进一步加强航空光电领域的应用基础性研究，强化人才队伍和研究平台建设；立足突破核心技术，提升自主创新能力。 经过二十余年不懈努力，长春光机所在高性能航空光电成像与测量系统集成制造技术上实现了我国航空光电成像与测量技术的跨越式发展，为我国重要航空光电装备“从无到有”、“从有到全”、“从全到优”的体系化建设做出突出贡献。
股友小散：
长春光机所一项目获国家科技进步一等奖
《劳动新闻》（2019年01月14日 02版）
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本报讯（记者 刘长宇）日前，从长春光机所传来好消息——在2018年度国家科学技术奖励大会上，该所“高性能航空光电成像与集成制造技术”项目荣获国家科学技术进步一等奖，项目负责人贾平现场接受颁奖。 航空飞行的复杂应用环境和特殊任务目标使得航空光电成像技术成为多学科交叉融合的、难度极高的综合性技术：航空光电载荷的集成制造涉及到光学、力学、热学、磁学、精密机械、自动控制、电子学、计算机科学等多个学科，且需要在宽域大梯度温度变化、复杂振动、姿态扰动等恶劣环境中工作，同时还要满足体积、重量、功耗等严格的约束条件。 早在上世纪80年代末开始，长春光机所在国内率先开展了无人机航空光电成像机理、方法和集成制造技术研究工作。2010年，长春光机所组建中国科学院航空光学成像与测量重点实验室，进一步加强航空光电领域的应用基础性研究，强化人才队伍和研究平台建设；立足突破核心技术，提升自主创新能力。 经过二十余年不懈努力，长春光机所在高性能航空光电成像与测量系统集成制造技术上实现了我国航空光电成像与测量技术的跨越式发展，为我国重要航空光电装备“从无到有”、“从有到全”、“从全到优”的体系化建设做出突出贡献。
股友小散：
大爷唱多为国护盘！！但股吧被唱空做空的内外勾结的恶势力控制！禁言6天！
股友小散：
这才是真正的硬科技超过科创板的百元股！未来千亿市值！！
股友小散：
这才是真正的硬科技超过科创板的百元股！未来千亿市值！！
股友之秋：
吹牛找个现实点的理由，还光刻机，一百年以后吧
股友小散：
长春光机所“极紫外（EUV）光刻关键技术研究”项目验收会
近日，“极紫外（EUV）光刻关键技术研究”项目验收会在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（以下简称长春光机所）召开，验收会由“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项（02专项）实施管理办公室组织。
会上，评审专家组肯定了项目取得的一系列成果，一致同意项目通过验收，认为该项目的顺利实施将我国极紫外光刻技术研发向前推进了重要一步。
极紫外光刻是一种采用波长13.5nm极紫外光为工作波长的投影光刻技术，是传统光刻技术向更短波长的合理延伸。作为下一代光刻技术，极紫外光刻被行业赋予拯救摩尔定律的使命。
长春光机所应用光学国家重点实验室研究员金春水告诉《中国科学报》记者：“极紫外光刻光学技术代表了当前应用光学发展最高水平，作为前瞻性EUV光刻关键技术研究，项目指标要求高，技术难度大、瓶颈多，创新性高，同时国外技术封锁严重。”
自上世纪90年代起，长春光机所开始专注于EUV/X射线成像技术研究，着重开展了EUV光源、超光滑抛光技术、EUV多层膜及相关EUV成像技术研究，形成了极紫外光学的应用技术基础。
2002年，长春光机所研制国内第一套EUV光刻原理装置，实现了EUV光刻的原理性贯通。2008年国家“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”科技重大专项将EUV光刻技术列为“32-22nm装备技术前瞻性研究”重要攻关任务。长春光机所作为牵头单位，承担起了“极紫外光刻关键技术研究”项目研究工作，成员单位还包括中国科学院光电技术研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院微电子研究所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学。
金春水率领的长春光机所项目研究团队秉承锲而不舍的科研精神，潜心钻研，厚积薄发，历经八年的艰苦奋战，突破了制约我国极紫外光刻发展的超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等核心单元技术，成功研制了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统，构建了EUV 光刻曝光装置，在国内首次获得EUV 投影光刻32 nm 线宽的光刻胶曝光图形。
金春水说：“我们建立了较为完善的曝光光学系统关键技术研发平台，圆满完成国家重大专项部署的研究内容与任务目标，实现EUV 光学成像技术跨越，显著提升了我国极紫外光刻核心光学技术水平。”
同时，项目的实施形成了一支稳定的研究团队，为我国能够在下一代光刻技术领域实现可持续发展奠定坚实的技术与人才基础。
验收会上，长春光机所所长贾平指出，从时机及技术难度方面考虑，EUV项目的布局正处于窗口期，希望国家给予持续稳定的支持。他鼓励项目参研单位进一步发挥EUV学科优势，鼓足勇气并肩奋斗，在后续支持下取得更好的成果。
02专项总体组技术总师、中科院微电子研究所所长叶甜春也强调，在国际上EUV光刻大生产基地已经建立的形势下，我国EUV光刻研究要继续坚持下去，面向未来产业工程化需求，着力点要放在必须掌握的核心技术和有可能取得创新的突破点。
此外，叶甜春评价长春光机所光刻机队伍是承担最核心、最高端、最艰苦任务的队伍，也是专项团队中最有战斗力、最能抗压、最值得信任的主力部队。他鼓励项目团队肩负重大任务的责任与使命感，继续坚持勇攀高峰。
02专项光刻机工程指挥部总指挥、科技部原副部长曹健林是国内熟悉EUV光刻的领域专家之一。他认为我国已初步具备光刻技术的研发能力，并向着产业化目标前进，30年前的“中国光刻梦”正在逐步变为现实，通过我国光刻技术研发能力的建设初步树立了坚持“中国光刻梦”的信心。
（原载于《中国科学报》 2017-07-10 第5版 创新周刊)
股友小散：
长春光机所“极紫外（EUV）光刻关键技术研究”项目验收会
近日，“极紫外（EUV）光刻关键技术研究”项目验收会在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（以下简称长春光机所）召开，验收会由“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项（02专项）实施管理办公室组织。
会上，评审专家组肯定了项目取得的一系列成果，一致同意项目通过验收，认为该项目的顺利实施将我国极紫外光刻技术研发向前推进了重要一步。
极紫外光刻是一种采用波长13.5nm极紫外光为工作波长的投影光刻技术，是传统光刻技术向更短波长的合理延伸。作为下一代光刻技术，极紫外光刻被行业赋予拯救摩尔定律的使命。
长春光机所应用光学国家重点实验室研究员金春水告诉《中国科学报》记者：“极紫外光刻光学技术代表了当前应用光学发展最高水平，作为前瞻性EUV光刻关键技术研究，项目指标要求高，技术难度大、瓶颈多，创新性高，同时国外技术封锁严重。”
自上世纪90年代起，长春光机所开始专注于EUV/X射线成像技术研究，着重开展了EUV光源、超光滑抛光技术、EUV多层膜及相关EUV成像技术研究，形成了极紫外光学的应用技术基础。
2002年，长春光机所研制国内第一套EUV光刻原理装置，实现了EUV光刻的原理性贯通。2008年国家“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”科技重大专项将EUV光刻技术列为“32-22nm装备技术前瞻性研究”重要攻关任务。长春光机所作为牵头单位，承担起了“极紫外光刻关键技术研究”项目研究工作，成员单位还包括中国科学院光电技术研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院微电子研究所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学。
金春水率领的长春光机所项目研究团队秉承锲而不舍的科研精神，潜心钻研，厚积薄发，历经八年的艰苦奋战，突破了制约我国极紫外光刻发展的超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等核心单元技术，成功研制了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统，构建了EUV 光刻曝光装置，在国内首次获得EUV 投影光刻32 nm 线宽的光刻胶曝光图形。
金春水说：“我们建立了较为完善的曝光光学系统关键技术研发平台，圆满完成国家重大专项部署的研究内容与任务目标，实现EUV 光学成像技术跨越，显著提升了我国极紫外光刻核心光学技术水平。”
同时，项目的实施形成了一支稳定的研究团队，为我国能够在下一代光刻技术领域实现可持续发展奠定坚实的技术与人才基础。
验收会上，长春光机所所长贾平指出，从时机及技术难度方面考虑，EUV项目的布局正处于窗口期，希望国家给予持续稳定的支持。他鼓励项目参研单位进一步发挥EUV学科优势，鼓足勇气并肩奋斗，在后续支持下取得更好的成果。
02专项总体组技术总师、中科院微电子研究所所长叶甜春也强调，在国际上EUV光刻大生产基地已经建立的形势下，我国EUV光刻研究要继续坚持下去，面向未来产业工程化需求，着力点要放在必须掌握的核心技术和有可能取得创新的突破点。
此外，叶甜春评价长春光机所光刻机队伍是承担最核心、最高端、最艰苦任务的队伍，也是专项团队中最有战斗力、最能抗压、最值得信任的主力部队。他鼓励项目团队肩负重大任务的责任与使命感，继续坚持勇攀高峰。
02专项光刻机工程指挥部总指挥、科技部原副部长曹健林是国内熟悉EUV光刻的领域专家之一。他认为我国已初步具备光刻技术的研发能力，并向着产业化目标前进，30年前的“中国光刻梦”正在逐步变为现实，通过我国光刻技术研发能力的建设初步树立了坚持“中国光刻梦”的信心。
（原载于《中国科学报》 2017-07-10 第5版 创新周刊)