(奥普光电)奥普光电：承担国家科技重大专项 潜在的光刻机国产替代者

奥普光电：承担国家科技重大专项 潜在的光刻机国产替代者
光刻机，是芯片制造过程中的核心，是制造芯片重要的上游设备，地位极其重要。
半导体设备行业细分领域众多，大致上可以分为沉积设备、光刻设备、刻蚀设备、材料制备设备、表面处理设备、安装设备等几大块。
其中最核心的，技术门槛最高的，是光刻设备，目前被一家荷兰公司垄断——ASML。
ASML占据了全球高达80%的市场份额，以及全部的高端市场份额，最先进的EUV光刻机每台售价都超过1亿美元。
光刻设备占据了半导体设备市场的39%，高端技术壁垒太强，国内厂商则选择从中低端开始切入。
荷兰ASML牛到什么地步？他原是荷兰电器巨人飞利浦集团旗下的集成电路部门，后被独立分离出来，目前占据世界高达80%的市场份额，垄断了高端光刻机市场，而且世界主要芯片制造商英特尔，三星 和台积电都是ASML的股东，它们用来加工14/16nm芯片的光刻机都是买自ASML，而格罗方德、联电以及中芯国际等晶圆厂的光刻机主要也是来自ASML，ASML可谓独步天下、独孤求败。
而在我国国内，晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
这就是为何ASML售价超过1亿美金的高端设备：EUV NXE 3350B（EUV极紫外线光刻机），号称半导体业的终极武器，台积电、英特尔都寄望，这台史上最昂贵的工具机，会在2017年开始试产的七奈米制程大发神威，成为主力机种。
相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸，处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中，性能最好的是能用来加工90nm芯片的光刻机，论技术差距说是鸿沟都不为过。
正是因此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，但是由于西方瓦森纳协议的限制，中国只能买到ASML的中低产品，这一点从2016年厦门当地企业进口的光刻机报价仅1亿人民币就可以看出来了。
作为集成电路 制造过程中最核心的设备，光刻机至关重要，芯片厂商想要提升工艺制程，没有它万万不行，中国半导体工艺为啥提升不上去，