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(士兰微)第21届中国集成电路制造年会将于9月12日在无锡召开

2018年9月12日  16:43:20 来源:168炒股学习网  阅读:992人次

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士兰微(600460)

记者获悉,由中国半导体行业协会主办的第21届中国集成电路制造年会(CICD)将于9月12日-14日在江苏省无锡市举办,预计有400多家企业、近1000名专业代表出席。  会议主办方表示,此次年会将以“培育发展中国集成电路制造产业链优势”为主题,探讨我国集成电路产业链协同创新、强化基础、全面提升、平稳快速发展所面临的挑战和发展途径。议程包括主题高峰论坛以及先进制程与设备材料论坛、IGBT技术发展论坛、存储技术发展论坛等专题论坛。  科技部、工信部、省市经信委等相关政府部门,中国科学院、工程院、国家集成电路重大专项、国家集成电路产业投资基金等行业专家,以及中芯国际、华虹宏力、台积电、紫光集团等集成电路产业链代表企业的企业家、创业者、投资人,将在本届大会共同探讨集成电路制造产业链各个环节的发展问题。

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